在接下來的幾天裡，李天明和他的團隊深入方格晶片的試驗場，與當地技術人員密切合作，進行了一系列技術測試。他們的首要目標是改良光刻機的性能，尤其是極紫外光刻機（EUV）的光源聚焦技術，以提高晶片製程的精度與效率。李天明的團隊之前已經對光照的部分進行過改良，使光照合格率達到了100%。而現在，團隊的目標是進一步優化EUV光源的聚焦，讓這項尖端技術發揮出更強的效能。
1. 挑戰的起點：光源聚焦改進
EUV光刻機是半導體製造中最精密的設備之一，能夠將電路圖案以極高的分辨率轉移到晶圓上。該機器的核心技術在於如何將極紫外光源（波長約13.5奈米）的光束準確聚焦，通過光罩轉移圖案到晶圓表面。而要達到這樣的精度，光源的收集與傳遞至關重要。
李天明對團隊說：「我們之前已經改良了光照技術，現在要專注於如何讓EUV光的利用率達到最大。我們需要將光源收集鏡和反射鏡的精度進一步提升，這樣才能讓每束光線都準確到達光罩，從而提高整個光刻過程的精度。」
他的團隊立刻展開行動，對EUV光束的收集和傳遞過程進行細緻的分析，並針對光線聚焦的精度問題提出了具體的改進措施。
2. 精度提升：小數點四位到六位的突破
根據過去的數據分析，收集鏡和反射鏡的位置是影響光束傳遞效率的關鍵因素之一。經過深入測試，團隊發現，收集鏡的位置精度如果從小數點後四位提高到六位，可以顯著改善EUV光束的聚焦效果。
「我們要把鏡片的精度提升到奈米級別，」李天明向技術人員解釋道。「這意味著我們需要把收集鏡和反射鏡的位置調整到小數點六位的精度。這樣，我們才能確保每束EUV光能以最佳狀態聚焦到光罩上。」
經過大數據的精密計算和多次模擬，他們決定使用高度精準的機器人來進行這一操作。機器人能夠將每個鏡片的位置微調到奈米級別的精度，確保光線的聚焦達到最佳效果。團隊利用這種技術調整後，實際測量結果顯示，光度增強了10%，大大提高了EUV光的有效利用率。
3. 反射鏡調整：提升至115%的光度效率
李天明和團隊接下來的任務是對EUV光刻機中的反射鏡進行精度提升。他們通過改進反射鏡的位置調整，同樣將其從小數點四位的精度提升到小數點六位。這種精度提升使得光線在經過反射鏡和收集鏡後能夠完美重疊，進而提高了光束的強度與準確度。
「我們的測試結果顯示，當反射鏡的精度提升到小數點六位後，光度不僅提升了，而且在經過重疊後，光源效率達到了115%。這意味著我們不僅優化了光源的利用率，還進一步提升了光刻效果。」李天明在總結會議中向團隊分享了這一振奮人心的數據。
這個結果不僅讓團隊士氣大振，也讓方格晶片的技術人員看到了技術突破的可能性。這意味著，在同樣的設備基礎上，通過技術上的改進，他們已經使EUV光源的效能提升了15%。
4. 光波擴散問題的解決
在這次技術改良過程中，李天明的團隊還專注於解決光波擴散的問題。在傳統的EUV光刻過程中，由於光波的擴散，光罩上的電路圖案在轉移到晶圓時容易產生模糊的邊界，從而影響電路的精度與線條的清晰度。
為了改善這一問題，團隊針對光波的擴散行為進行了多次模擬和調整。他們發現，通過調整光罩的材料和光波的反應時間，可以顯著降低光波擴散的幅度。經過一系列精密調整後，光罩上的線條變得更加清晰，模糊的線條變成了精確的直線，這樣一來，不僅提升了電路的精度，也降低了電路之間的交疊風險。
5. 方格晶片的讚許與展望
經過這次技術改良，方格晶片董事長錢先生親自來到試驗場，查看改良後的成果。透過電子顯微鏡，他仔細觀察了新技術下的光刻效果。顯示屏上的電路線條分外清晰，線與線之間不再需要過多的留白，交疊問題幾乎徹底消失。
錢董事長看著螢幕，充滿驚訝地說：「以前我們必須在電路之間留出一定的容留寬度，避免線路交疊導致的製程問題。現在，這個技術突破讓我們可以提高良率，甚至可以更進一步，朝三奈米製程邁進。」
他轉向李天明，誇讚道：「李先生，你們的團隊真是了不起！能在短時間內做出這麼大的調整，讓我們的設備發揮出超乎預期的效果。你們這次的技術改進，讓同樣的設備運作出了完全不同的結果，這是我見過最令人驚喜的技術突破之一！」
李天明笑了笑，謙虛地回答：「董事長，這是我們團隊共同努力的成果。我們不過是在現有的技術基礎上進行優化，希望能為貴公司帶來更好的技術解決方案。未來我們還會繼續努力，爭取在更高的製程精度上取得更多突破。」
6. 未來的合作與挑戰
經過這次技術改良，李天明的團隊與方格晶片之間的合作進一步加深。他們不僅成功解決了現階段光刻技術中的幾個重大瓶頸，還開啟了更深層次的技術探索。未來，李天明的團隊將繼續研究如何將光刻技術推向更高層次，實現更高的晶片製程良率。
「下一步，我們的目標是三奈米製程，這將是另一個巨大的挑戰，但我相信我們能做到，」李天明對團隊說。「我們要在現有的技術基礎上不斷創新，持續優化製程，讓更多的技術難題迎刃而解。」
方格晶片的技術人員和李天明的團隊都對未來充滿了信心。這次的技術突破，不僅讓他們看到了光刻技術的無限可能，也讓他們明白，通過不斷追求精度的極限，半導體產業將迎來更多的技術革命與創新。
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